프레온가스 대체물질 개발 '증가세'
특허청, HCFC 제한으로 HFC·PFC 증가
오존파괴물질인 프레온가스와 수소화염화불화탄소(HCFC, hydrochlorofluorocarbon) 사용이 제한되는 가운데 대체물질인 수소화불화탄소(HFC, hydrofluorocarbon) 및 과불화탄소(PFC, perfluorocarbon)에 대한 특허출원이 증가세를 보이고 있다.
특허청(청장 전상우)에 따르면 오존파괴물질인 프레온가스 및 수소화염화불화탄소의 제조방법 및 이들을 이용한 제품에 관한 특허출원은 2004년 이후 계속해서 감소하는 추세를 보이고 있으며 오존층에 전혀 영향을 미치지 않는 대체물질인 수소화불화탄소 또는 과불화탄소의 제조방법 및 이들을 이용한 제품에 관한 특허출원은 꾸준히 증가하고 있다. 특히 2006년에 급격한 출원의 증가세를 보이고 있다.
출원인별로는 지난해 내국인 특허출원건수는 3건에 불과했으나 외국인은 38건에 달해 무려 13배 많은 출원 건수를 기록해 외국에서는 이미 오존층 파괴물질의 생산 및 사용 규제에 대비한 대체물질 개발과 이를 이용한 제품 개발이 활발히 진행되고 있음을 증명했다.
수소화불화탄소(HFC) 및 과불화탄소 가스는 주로 냉장고 등의 냉매를 비롯해 반도체 및 LCD공정 등의 세정용으로 사용되는 등 첨단제품 제조에 많이 쓰인다.
한편 정부는 지난 1992년부터 오존파괴물질 생산·수입업자의 부담금을 재원으로 한 ´특정물질사용합리화기금´을 조성해왔으며 올해에는 총 84억원의 기금예산을 확보해 대체물질의 생산 및 이용에 관한 ‘시설대체자금 융자’, ‘대체물질기술개발 출연’, ‘대체물질기술개발 기술지도사업’ 등을 지원함으로써 국내 관련 산업계의 피해를 최소화시키려는 노력을 하고 있다.
<고봉길기자 julywed@enn.co.kr >
게재시간 : 2007-07-12 오후 2:14:18
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